半导体晶体玻璃清洗LSA雷士清洗机

LSA雷士碳氢超声波清洗机

应用范围

液晶显示器件，半导体硅晶片、集成电路、高精度印制电路板、光学器件、石英晶体、带氧化膜的金属材料等主要材料玻璃、光学玻璃。

去除污垢：有机性污垢、人体皮脂、化妆品油脂、树脂添加剂、聚酰亚胺、石蜡、松香、润滑油、残余光刻胶等。

在真空状态下进行清洗、干燥和蒸馏再生过程中，由于含氧量很低，虽然温度达到或超过碳氢溶剂的闪点也不会燃烧，保证了使用的安全。

超声波清洗机的特点：

1在液体中清洗的方式，清洗后脏污留在液体中

2可清除物体表面的碳和有机污染物。

3清洗后的液体排放掉，重新换上新液体

4保证产品工件的高可靠性和高成品率

5产品表面清洗处理的均匀度非常一致